某半导体行业电子器件制作厂厂在晶圆制作历程中，利用硅烷使用硅概念经常出现，排放清洗塔生产高溶液浓度含硅工业废液。工业废液兼有pH震荡大（2-11）、硅含铁高的特别，以往处理的办法易经常出现硅垢堵赛间题。 废水处理工艺因素及起源 污废水 最主要的化学物质为： 溶解性性硅酸盐 ：SiO₂盐浓度达1000-1500mg/L 盐酸/氢腐蚀钠 ：洗條塔酸碱平衡洗條液剩余的 粒子硅 ：納米级SiO₂悬浊液 痕量砷 ：制造原材料沉渣融入 加工处理加工制作工艺 方案 改革创新选择"有级中合+膜活性炭过滤+减压蒸馏成果"工艺流程： 特一级采和 ：用CaO控制pH至4-5，转化成硅酸钙放置，硅清除率60%。 中级与 ：加Na₂CO₃将pH不断提升至9，进这一步沉积其他硅，串并联用镁剂除砷。 反渗透膜设备 ：0.02μm卫浴陶瓷膜过滤程序纳米级级硅粒子，通量维持在80LMH。 MVR多效冷凝器 ：精提高盐生产废水，沉淀出Na₂SO₄副货品，水造纸废水处理率超90%。 终极成果 总硅从1500mg/L降落到5mg/L有以下 砷水平从0.8mg/L降到0.01mg/L 模式无水垢加载以上2年 一年回报浓盐酸钠晶胞约800吨