某半导体设备造成企业公司因晶圆洗流程引发含氨废污水，发电量200吨/天。废污泥中除化学需氧量外还富含氟化物和氢化物发生器天价属，整理難度大。当地政府排放口规格想要化学需氧量＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废水处理方法物质及由来 晶圆洗污水（一般渠道）：含氟化物200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀程序生产废水：含进样器铜、镍等高价属，pH值变化大 CMP粉磨工业废水：含硅科粒及氟化物 补救方法程序 按照"化学工业沉积+膜剥离+折点氯化"乐队组合工艺设备： 预治疗 ：添加CaCl2除氟，调整pH在7.5-8. 超滤膜设备 ：消除0.01μm综上所述烟粉尘物 反覆盖精炼 ：将化学需氧量沉淀至1000mg/L之上 折点氯化 ：精准操作氯加药系统量，将高锰酸盐指数还原成为氦气 正离子互换 ：保障机制血本属标准 最终能够实际效果 氧化还原电位不稳＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 血本属成分远低于测量限 水回收率达75% 飞灰出现量减小40%